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系统使用405纳米(可升级375纳米)激光源在感光层上曝光,不需订购或制作掩模,图案可随用户设计而改变;
系统不使用掩模版,只需在基版上涂胶后用紫外激光聚焦进行曝光,系统的标准作业方法就像点阵打印机一次一行;
激光按设计写入线条进行的曝光,类似激光切割机或绘图仪工作模式,只有单点系统才能进行矢量书写;
系统使用405纳米激光源,可实现高达300纳米特征尺寸。
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